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2010年,世界主流的芯片制程工艺大约在32nm到45nm之间,许多高端处理器和图形芯片采用这个范围的制程。
最先进的商用芯片制程,则达到了32nm。
比如,鹰特尔在2010年初推出了32nm制程的westmere架构处理器。
Ibm、GlobalFoundries和四星的联盟也在2010年开始量产32nm芯片。
值得一提的是,移动设备芯片的制程通常落后于高性能处理器。
在2010年时,很多移动芯片还在使用45nm或更大的制程。
当然,
32nm是当前最先进的量产制程,但更先进的制程已经在研发中,比如22nm制程正在积极开发,预计在接下来的1-2年内投入生产。
1614nm也在研究中,但要到几年后才能商用。
芯片发展非常迅速。
到了2020年,主流的芯片制程工艺大约在7nm到14nm之间。
许多高端处理器、移动芯片和图形处理器都采用这个范围的制程。
最先进的商用芯片制程,已经达到了5nm。
苔积电在2020年开始量产5nm芯片,平果A14bionic处理器是首批采用这一制程的产品之一。
四星也在2020年底开始量产5nm芯片。
而此时非常牛比的鹰特尔,主要在14nm和10nm制程,但在先进制程上落后于竞争对手。
当然,市场上流通的,主要还是14nm和28nm制程。
如果未来汽车想实现智能驾驶lv2,可能就需要22nm制程工艺制作车机芯片了。
如今,
郝强掌握的EbL光刻机制作工艺,以目前的技术,已经可以实现14nm制程,也是成本最低。
当然,制程缩小,更先进的3nm和2nm制程也不是问题。
只不过,制作成本要高许多。
通常来说,
14nm制程,通常需要9N(99.%)或更高纯度的单晶硅。
3nm制程,可能需要11N(99.%)或更高纯度的单晶硅。
2nm制程,可能需要11N+(99.%以上)的超高纯度单晶硅。
EbL光刻机的确具有制造更先进芯片的潜力,包括1.4nm和1nm等制程。
只要3d封装技术、芯片堆叠等配套技术能够跟上,这些更小制程的实现将指日可待。
可以说,郝强选择的EbL光刻机和相关芯片制造工艺,在未来几十年内都有望保持世界第一地位。
根据当前的研发进度,未来科技集团要实现14nm制程的芯片量产,预计需要至少两年时间。
时间点也到了2012年,市场上主流芯片可能已达到28nm制程,顶尖产品或将达到22nm,甚至14nm制程。
在这种情况下,郝强可以考虑先从14nm制程入手。
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